法國半導體業者擴產受限，加速推動相關製程水回收效率

法國產業雜誌新工廠(UsineNouvelle)本(6)月25日報導，位於法國阿爾卑斯山山谷Grésivaudan之半導體廠區-意法半導體(STMicroelectronics,ST）與Soitec，合計消耗當地逾八成之工業用自來水，其中，ST去(2025)年用水量約達500萬立方公尺，Soitec則接近100萬立方公尺。由於晶片製造過程需大量超純水清洗晶圓，因此兩家公司長期維持高用水需求。隨著擴產計畫推進，加上2022年法國嚴重乾旱，引發外界對產業用水的關注與質疑。

儘管地方政府強調當地地下水資源充沛，目前並未出現實質用水衝突，但在社會輿論壓力下，主管機關已限制供水量進一步增加。未來兩家企業若要持續擴充產能，必須在不增加自來水取用量的前提下提升生產能力。

為此，ST與Soitec刻正加速布局製程用水回收技術。ST推動「Reclaim」計畫，目標是將工業廢水再製為超純水，並將回收水占比提升至60%；Soitec則在無塵室內直接回收部分晶圓沖洗用水，預計2030年前將水回收率提高至75%。

然而，廢水排放量下降後，排放至附近河川之氮、磷及銅等污染物濃度可能提高，引發環保團體對水體污染風險之疑慮。(資料來源：經濟部國際貿易署)